紫外臭氧清洗機(jī)在消毒過程中與照射強(qiáng)度和照射時(shí)間有關(guān)，受溫度和濕度的影響較大，存在消毒死角。臭氧消毒殺菌快，光譜殺菌能力強(qiáng)，其效果可以到達(dá)一般紫外線消毒的15倍，無二次污染，不僅可以對(duì)物體表面進(jìn)行消毒，還可以對(duì)室內(nèi)存在的甲醛、苯、煙味等有害氣體進(jìn)行去除。紫外線可以殺滅各種微生物，包括細(xì)菌繁殖體、芽胞、分支桿菌、病毒、真菌、立克次體和支原體等，具有廣譜性。從內(nèi)部進(jìn)行破壞，從而讓有害物質(zhì)致死。

 

　　紫外臭氧清洗機(jī)的技術(shù)應(yīng)用：
 

　　1、在LCD、OLED生產(chǎn)中，在涂光刻膠、PI膠、定向膜、鉻膜、色膜前經(jīng)過光清洗，可以提高基體表面潤(rùn)濕性，增強(qiáng)基體表面的粘合力；
 

　　2、印制電路板生產(chǎn)中，對(duì)銅底板，印刷底板進(jìn)行光清洗和改質(zhì)，在導(dǎo)線焊接前進(jìn)行光清洗，可以提高熔焊的接觸面積，大大增加連接強(qiáng)度。特別是高精度印制電路板，當(dāng)線距達(dá)到亞微米級(jí)時(shí)，光清洗可輕易地去除在線距之間很小的微粒，可以大大提高印制電路板的質(zhì)量。
 

　　3、大規(guī)模集成電路的密度越來越高，晶格的微細(xì)化越來越密，要求表面的潔凈度越來越高，光清洗可以有效地實(shí)現(xiàn)表面的原子清潔度，而且對(duì)芯片表面不會(huì)造成損傷。
 

　　4、在半導(dǎo)體生產(chǎn)中，硅晶片涂保護(hù)膜、鋁蒸發(fā)膜前進(jìn)行光清洗，可以提高粘合力，防止針孔、裂縫的發(fā)生。
 

　　5、對(duì)清除石蠟、松香、油脂、人體體油、殘余的光刻膠、環(huán)氧樹脂、焊劑，以及帶有氧化膜的金屬表面處理，去除導(dǎo)電聚酰亞胺粘合劑上的有機(jī)污染物，光清洗是十分有效的方法。
 

　　6、磁頭固定面的粘合，磁頭涂敷，以及提高金屬絲的連接強(qiáng)度，光清洗后效果更好。
 

　　7、石英晶體振蕩器生產(chǎn)中，除去晶體檢測(cè)后涂層上的墨跡，晶體在銀蒸發(fā)沉積前，進(jìn)行光清洗可以提高鍍膜質(zhì)量和產(chǎn)品性能。
 

　　8、在IC卡表面插裝ROM前，經(jīng)過光清洗可提高產(chǎn)品質(zhì)量。
 

　　9、彩色濾光片生產(chǎn)中，光清洗后能*洗凈表面的有機(jī)污染物。
 

　　10、敷銅箔層壓板生產(chǎn)中，經(jīng)過光照改質(zhì)，不僅表面潔凈而且表面形成十分均勻的保護(hù)氧化層，產(chǎn)品質(zhì)量明顯提高。